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用化学方法蚀刻的耦合腔激光器

上传者: 2021-02-09 17:54:44上传 PDF文件 628.86KB 热度 12次
加州大学伯克利分校K. L.陈和S. 王已研制 出一种用耦合腔方法制作单频二极管激光器的新变种,他们用化学蚀刻方法在折射率控制的沟道衬底InGaAsP激光器中形成三个腔。
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