50 nm分辨力极端紫外光刻物镜光学性能研究

极端紫外光刻(EUVL)作为实现100~32 nm特征尺寸微细加工的优选技术,其光刻物镜的光学性能是实现高分辨图形制作的关键。利用光学设计软件CODE V对6枚非球面反射镜构成的光刻物镜设计和光学性能分析,其分辨力可以实现50 nm,曝光面积为26 mm×1 mm。结果表明,光学性能对曝光场点的依赖关系。在全曝光场中进行了光学性能分析,其最大畸变为3.77 nm,最大波面差为0.031λ(均方根值),该缩小投影物镜完全可以满足下一代极端紫外光刻机的性能要求。