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16~22 nm极紫外光刻物镜工程化设计

上传者: 2021-02-08 15:22:51上传 PDF文件 4.51MB 热度 23次
极紫外光刻是16~22 nm光刻技术节点的候选技术之一,其投影物镜设计需在满足像质和分辨率要求的前提下,兼顾工程可实现性。在考虑加工、检测和制造约束的情况下,设计了像方数值孔径分别为0.3和0.32、曝光视场为26 mm×1.5 mm的极紫外光刻投影物镜。详细分析和比较了两套物镜的光学性能和可制造性。结果表明,两套物镜结合分辨率增强技术可分别满足22 nm和16 nm光刻技术节点的性能要求。
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