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硅基上Si1 xGex合金的外延生长及性能研究

上传者: 2021-02-22 14:12:27上传 PDF文件 10.64MB 热度 10次
硅基上高质量的异质外延生长是实现高性能微电子器件的基础,本文通过低温分子束外延技术在Si衬底上实现了全组分的Si1-xGex(0
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