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铜激光倍频光亚微米投影光刻系统的设计和实验研究

上传者: 2021-02-19 21:44:07上传 PDF文件 909.03KB 热度 9次
为了研究波长为255.3 nm的铜蒸气激光倍频光在亚微米光刻中的可行性,设计了带宽为1 nm的1:1折反射式投影光刻物镜和一个带散射板的光管式均匀照明系统,获得了0.6 μm的光刻分辨率。此结果表明,铜激光倍频光可作为亚微米光刻的照明光源。
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