深紫外氧化物薄膜的光学特性

降低薄膜的吸收对于氧化物薄膜在深紫外波段的应用具有重要意义,为此采用离子束溅射方法分别制备了用于深紫外波段的Al2O3和SiO2薄膜,利用光度法和椭圆偏振法相结合,计算得到其在190~800 nm范围内折射率n和消光系数k的色散曲线。在此基础上,以这两种氧化物材料作为高低折射率材料进行组合,设计并制备了λ/4规整膜系的193 nm多层高反射膜。实验结果表明,退火前薄膜的光学损耗相对较大,其中散射损耗较小,吸收损耗是光学损耗的主要部分。退火后光学损耗明显减小,散射损耗随着表面粗糙度增加而略微增加,表明光学损耗的减小是由吸收损耗下降所引起的。通过工艺优化,改善了氧化物薄膜在深紫外波段的损耗状况,使