基于激光裂解含Ti粉聚二甲基硅氧烷的SiTiOC复相陶瓷涂层制备

通过激光裂解含Ti粉聚二甲基硅氧烷先驱体, 制备了陶瓷涂层, 并分析了裂解产物的组成与结构。结果表明, 在高能激光作用下, Ti粉与聚二甲基硅氧烷发生自由基反应, 生成由晶态的SiC、TiC、TiO2和非晶态SiO2、单质C、C6H18OSi2组成的复相陶瓷涂层。新生的TiO2和TiC陶瓷相能填补陶瓷涂层的孔隙, 使涂层表面平整, 孔隙减少。金属Ti粉的加入还有利于降低复相陶瓷涂层中自由碳的质量分数, 当添加的Ti粉质量分数为5.0 %时, 涂层中Si、O和C元素质量分数分别达到74.44%、16.48%和6.19%。