投影物镜偏振像差对光刻成像质量影响的解析分析方法

提出一种分析线性偏振照明条件下投影物镜偏振像差对交替相移掩模(Alt-PSM)空间像影响的解析方法。基于矢量光刻成像理论,从掩模空间像的光强分布推导出偏振像差引起的空间像图形位置偏移误差(IPE)和最佳焦面偏移(BFS)的解析表达式,实现了各个泡利-泽尼克偏振像差对空间像影响的解析分析。建立了IPE 与奇像差项泡利-泽尼克系数和BFS 与偶像差项泡利-泽尼克系数间的线性关系。通过光刻仿真软件模拟验证了解析分析结果的正确性,并用最小二乘法评估了线性关系的精确度。