Size Effect of Copper Upon Electroless Initiation 上传者：a81891 2021-01-01 02:18:15上传 PDF文件 193.72KB 热度 10次 铜尺寸对引发化学镀的影响,胡光辉,潘湛昌,实验发现孤立的小铜盘(0.1mm)比尺寸大的铜盘(>0.1mm)更难引发化学镀过程,也即小铜盘上易发生漏镀现象。主要原因可能是在置换反应过程 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 a81891 资源：477 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
