显示/光电技术中的Mentor揭开Calibre LFD面纱把工艺变动数据带入设计流程

Mentor Graphics日前宣布推出Calibre LFD(光刻工艺友好的设计)产品,标志着对IC设计创作流程的一次重大的重新思考,以及对可制造设计(DFM)解决方案的扩展。Calibre LFD是第一个通过生产验证可以解决如何在设计的早期阶段处理工艺变动这一急迫问题的电子设计自动化工具(EDA)。这个公告是在本周在欧洲召开的“设计,自动化,测试”会议(DATE)上宣布的。 Calibre LFD使设计师能够在创造更稳健,对光刻工艺窗口更少敏感的设计上做出权衡决策。这对90纳米的技术节点来说很重要,对65纳米的技术节点则更为关键,在这里工艺变动对硅片上的结果有着很大的影响。 “对于纳