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单阱CMOS工艺PN型光电二极管

上传者: 2020-11-17 18:47:59上传 PDF文件 66.72KB 热度 8次
最简单的制作CMOS OEIC的方法,就是利用CMOS工艺中能够很容易实现的pn结来作光电二极管,这其中包括源/漏-衬底pn结、源/漏-阱pn结,以及阱-衬底pn结。然而,这些pn结光电二极管通常位于没有电场分布的区域,在这些区域里,光生载流子的缓慢扩散运动限制了这些光电二极管的频率特性。已经报道的这种简单结构的CMOS OEIC的3 dB带宽都要小于15MHzH[49~51]。 CMOS工艺中源/漏-衬底和源/漏-阱pn结形成的光电二极管比较适合探测波长凡
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