掺杂浓度对Mo In2O3薄膜的性能影响
掺杂浓度对Mo-In2O3薄膜的性能影响,胡岗,孙志刚,采用真空蒸渡法合成了Mo掺杂In2O3(简称IMO)稀磁半导体薄膜,研究了Mo掺杂量对IMO薄膜的结构、形貌、电输运性能和磁性能的影响。研究
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