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浸涂和共烧结方法制备Sm0.2Ce0.8O1.9电解质膜

上传者: 2020-07-23 12:23:19上传 PDF文件 557.91KB 热度 4次
浸涂和共烧结方法制备Sm0.2Ce0.8O1.9电解质膜,杨涛,赵春花,采用浸涂及共烧结法在1200oC成功制备了超致密的厚度为11μm的Sm0.2Ce0.8O1.9(SDC)电解质膜。该膜以La0.8Sr0.2Cu0.1Fe0.9O3(LSCF)-SDC为支撑体,SE
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