uhv_cvd_parameters.txt 上传者：irritant 2020-07-22 10:49:53上传 TXT文件 453B 热度 34次 化学气相沉积是半导体工业经常使用的工艺，用于在晶片衬底上生长高纯度硅，基于comsol对超高真空化学气相沉积进行模拟，依靠输入流量和压力控制，可得到表面气相分布分数。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
