uhv_cvd_parameters.txt 上传者：irritant 2020-07-22 10:49:53上传 TXT文件 453B 热度 16次 化学气相沉积是半导体工业经常使用的工艺，用于在晶片衬底上生长高纯度硅，基于comsol对超高真空化学气相沉积进行模拟，依靠输入流量和压力控制，可得到表面气相分布分数。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 irritant 资源：3 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
