论文研究 酸槽制程稳定性的优化方法 .pdf
酸槽制程稳定性的优化方法，郑利平，程秀兰，在传统的半导体工艺中，有源区的氮化硅去除过程采用的是磷酸，这种酸对二氧化硅与氮化硅的选择比在一个换酸周期内差异非常大，在
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