氢化硅碳薄膜制备及其光电性能研究 上传者：labidax 2020-07-17 16:02:09上传 PDF文件 859.78KB 热度 24次 氢化硅碳薄膜制备及其光电性能研究，马胜利，张旭东，本文采用电弧增强磁控溅射镀膜(AEMS)技术制备SiCx:H薄膜，采用新颖的独立Si、C平面靶材，通过采用不同的工艺参数得到不同显微结构及光 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 labidax 资源：443 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
