氢化硅碳薄膜制备及其光电性能研究 上传者：labidax 2020-07-17 16:02:09上传 PDF文件 859.78KB 热度 56次 氢化硅碳薄膜制备及其光电性能研究，马胜利，张旭东，本文采用电弧增强磁控溅射镀膜(AEMS)技术制备SiCx:H薄膜，采用新颖的独立Si、C平面靶材，通过采用不同的工艺参数得到不同显微结构及光 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
