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纳米硅氧薄膜的低温沉积及其光电特性

上传者: 2020-07-17 13:41:57上传 PDF文件 523.57KB 热度 17次
纳米硅氧薄膜的低温沉积及其光电特性 ,刘海旭,赵静,本文目的在于研究低温下获得高质量纳米硅氧(nc-SiOx:H)薄膜材料的制备条件,采用甚高频等离子体化学气相沉积(VHF-PECVD)技术,以硅
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