Vacuum Field emission characteristics of HfOxNy films prepared by sputtering 上传者：lurusong27203 2020-07-17 02:55:20上传 PDF文件 420.18KB 热度 20次 溅射制备HfOxNy薄膜的真空场发射性质，蒋然，张燕，HfOxNy 薄膜室温溅射沉积在p型Si（100）衬底上。 使用FTIR和XRD方法研究了样品在不通退火温度下的成分和结构变化。研究了不通N含量和退� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 lurusong27203 资源：443 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
