LP MOCVD反应器中输运现象的数值研究 上传者：patrice75713 2020-07-17 00:40:02上传 PDF文件 1.09MB 热度 12次 LP-MOCVD反应器中输运现象的数值研究，钟树泉，任晓敏，本文利用二维动力学模型，通过变化MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) 反应器的几个重要工艺控制参数，计算了其内部稳态热流场均匀 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 patrice75713 资源：453 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
