MFIS结构保持损失的PFM研究 上传者：baidu_96393 2020-07-16 17:39:12上传 PDF文件 529.49KB 热度 10次 MFIS结构保持损失的PFM研究，张中华，钟向丽，首先，采用脉冲激光沉积法在Si(100)基片上依次制备了HfO2绝缘层和SrBi2Ta2O9无铅铁电薄膜，形成了金属-铁电-绝缘层-硅(MFIS)结构。然后，研 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 baidu_96393 资源：442 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
