紫外线辅助热处理改善多孔SiO2:F薄膜机械性能研究 上传者：zlm94540 2020-05-25 05:01:33上传 PDF文件 511.25KB 热度 8次 紫外线辅助热处理改善多孔SiO2:F薄膜机械性能研究，许金海，曹文磊，超大规模集成电路的集成度越来越高，Cu/低k材料系统的引入可以有效降低互连RC延迟问题。多孔SiO2:F薄膜具有许多优良性能，成为下一� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 zlm94540 资源：459 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
