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Tuning porous silica films by various surfactants and loading: A study of positr

上传者: 2020-05-22 12:42:22上传 PDF文件 242.72KB 热度 17次
表面活性剂对多孔二氧化硅薄膜的调制:基于慢正电子束的多普勒展宽谱学研究,熊帮云,毛文峰,分别以不同含量的非离子两亲性三嵌段共聚物F127和阳离子表面活性剂CTAB为结构模板,通过溶胶-凝胶的方法合成了多孔二氧化硅薄膜。采
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