固结磨料抛光垫作用下的材料去除速率模型 上传者：sc_ghost 2020-05-13 13:29:06上传 PDF文件 372.3KB 热度 19次 固结磨料抛光垫作用下的材料去除速率模型，沈建良，朱永伟，化学机械抛光CMP已经成为IC制造中的关键工艺之一，相关机制模型的研究是当前CMP的热点。在对研磨抛光过程作出适当简化的基础上，推� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 sc_ghost 资源：476 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
