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论文研究增强型GaN MOSFET的制备及其绝缘栅的电荷特性研究 .pdf

上传者: 2020-04-30 02:58:12上传 UNKONW文件 500kb 热度 15次
增强型GaNMOSFET的制备及其绝缘栅的电荷特性研究,周桂林,张金城,采用ICP干法刻蚀和PECVD沉积技术,制备了增强型Si衬底SiO2/GaNMOS栅场效应晶体管(MOSFET)。SiO2/GaNMOSFET转移特性曲线测试中出现阈值电压�
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