论文研究基于光掩膜校准的OPC模型匹配 .pdf 上传者：xin9707635 2020-03-18 15:22:26上传 PDF文件 697.64KB 热度 18次 基于光掩膜校准的OPC模型匹配，鲍晔，，基于模型的光学邻近效应修正(Model-basedOPC)已成为当今光刻工艺中不可或缺的技术。本文通过研究光掩膜图形与关键尺寸的校准，提出了� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 xin9707635 资源：19598 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
