论文研究基于光掩膜校准的OPC模型匹配 .pdf
基于光掩膜校准的OPC模型匹配，鲍晔，，基于模型的光学邻近效应修正(Model-basedOPC)已成为当今光刻工艺中不可或缺的技术。本文通过研究光掩膜图形与关键尺寸的校准，提出了�
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