椭偏技术在研究多孔低介电常数薄膜中的应用 上传者：q29968 2020-03-10 19:28:08上传 PDF文件 500kb 热度 34次 椭偏技术在研究多孔低介电常数薄膜中的应用，许金海，刘雪芹，多孔低介电常数（Lowk）材料有望作为集成电路互连介质的优良候选材料之一。椭偏技术不但可以快速、简捷、无损伤的测出薄膜的光学� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 q29968 资源：445 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
