椭偏技术在研究多孔低介电常数薄膜中的应用 上传者：q29968 2020-03-10 19:28:08上传 PDF文件 500kb 热度 62次 椭偏技术在研究多孔低介电常数薄膜中的应用，许金海，刘雪芹，多孔低介电常数（Lowk）材料有望作为集成电路互连介质的优良候选材料之一。椭偏技术不但可以快速、简捷、无损伤的测出薄膜的光学� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
