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高侧 N 沟道金属氧化物半导体 bq76200

上传者: 2019-09-20 00:22:56上传 PDF文件 1.4MB 热度 27次
TI自举升压芯片,用于关断高侧N-MOS,高压电池组前端充电/放电高侧NFET驱动器
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