离子注入技术在IC制造中的应用 上传者：hui96290 2020-12-13 11:24:50上传 PDF文件 23.99KB 热度 48次 随着离子注入技术的发展,它的应用也越来越广泛,尤其是在集成电路中的应用发展最快。由于离子注入技术具有很好可控性和重复性,这样设计者就可根据电路或器件参数的要求,设计出理想的杂质分布,并用离子注入技术实现这种分布。 离子注入技术在IC制造中的应用 1) 对MOS晶体管阈值电压的控制 2)自对准金属栅结构 3)离子注入在CMOS结构中的应用 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
