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论文研究InSb量子点的LPMOCVD法生长特征 .pdf

上传者: 2020-01-01 15:00:55上传 UNKONW文件 617KB 热度 43次
InSb量子点的LP-MOCVD法生长特征,陆晓欢,张彬,本文通过LP-MOCVD技术在GaSb衬底上外延生长高质量和高密度的InSb量子点,分析了一些影响InSb表面形貌的参数,如源流量、V/III相比、生长��
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