论文研究钴硅化物薄膜的快速淀积外延生长的原子模型模拟 .pdf 上传者：qq349925728 2019-12-31 23:25:19上传 PDF文件 396.61KB 热度 24次 钴硅化物薄膜的快速淀积外延生长的原子模型模拟，石浩，于民，钴硅化物作为大规模集成电路的接触等应用而收到关注。本文给出了一种新的模拟CoSi2薄膜的快速淀积外延（RDE）试验的方法。模型采用� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 qq349925728 资源：19471 粉丝：3 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
