用于MEMS的微型NiFe合金阵列的组织和磁性能

设计,制造和研究了具有各种几何尺寸和形状的NiFe合金阵列。 引入电沉积作为制造合金膜的高效集成方法。 讨论了阵列单元的尺寸大小和几何形状的影响。 随着尺寸的减小,样品的软磁性能得到改善,矫顽力降低了78.6%,矩形比降低了65.0%。 与正方形和矩形阵列相比,圆形阵列具有较小的矫顽力,较高的磁导率和较小的矩形比。 另外,还测试了不同的组成阵列的晶体结构。 发现Ni80Fe20含量的合金可以实现面心立方结构并实现最佳的软磁性能。 在面积为2000 x 2000μm(2)的圆形阵列中成功实现了0.383 Oe的矫顽力,4.21 x 10(-4)的矩形比和4.2 T的饱和磁化强度。