衬底温度对紫外区四分之一波长GdF3薄膜性能的影响

在深紫外线(DUV)光刻中非常需要高质量的氟化物材料涂层。 通过热舟蒸发Craft.io在不同的基板温度下制备氟化Ga(GdF3)薄膜。 考虑到它们在DUV /真空紫外光学组件中的普遍使用,将GdF3薄膜设置为四分之一波长厚度(约27 nm)。 在相应的沉积温度下,这些薄膜的纳米结构性质可能会显着不同,这将严重影响多层的性能。 GdF3薄膜的光学,结构和机械性能的测量和分析已在一个完整的表征周期中进行。 已经发现,在相对较高的温度下沉积GdF3薄膜将在该膜厚范围内形成相当致密,光滑,均匀的结构。 (C)2015年美国眼镜学会