紫激光作用下四甲基硅多光子电离TOF质谱研究 上传者：芝豆香农 2021-04-26 12:57:56上传 PDF文件 1.42MB 热度 40次 本文采用超声分子束技术,以飞行时间质谱仪,在396~387nm内的紫激光作用下对四甲基硅进行了多光子电离飞行时间质谱的研究,在较高的激光能量作用下检测到了Si(CH3)(n=1,2,3,)、Si9及等多种离子的信号,在较低的激光能量作用下只检测到了Si9、等离子的信号,表明四甲基硅在不同激光能量作用下经历了不同的多光子电离过程. 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
