用新方法测量薄膜厚度

把薄膜用于光学元件的基本物理思想几十年前就已众所周知。但在激光出现以前,多数薄膜是比较简单的,它们是单层防反射涂层或具有高、低折射率的1/4波片的简单堆迭。但随着激光的出现,薄膜变得前所未有的复杂。在过去二十年中,特定波长处的高反射率能经受非激光工作方式的大光通量,较严格的通带规范的限制等都是镀膜工作者所面临的困难。新的基底材料需有适当折射率的新镀膜材料。基底和镀膜材料要有极高的纯度。制造这种高度复杂薄膜是很困难的,薄膜光学特性的测量也很困难。