电致变色氧化钨薄膜锂离子阈值注入量的研究 上传者:weixin_48299 2021-04-07 09:32:09上传 PDF文件 898.25KB 热度 14次 探讨了WO3薄膜与1MLiClO4-PC溶液之间的界面电位差的变化规律及测量方法。制备了三种具有不同电致变色性能的WO3薄膜,并对它们进行了界面电位差随Li+注入量大小变化的测量。通过实验发现:界面电位差的变化趋势能够反映出氧化钨薄膜的Li+离子阈值注入量的大小。进而找到了用电阻热蒸发方法制备电致变色氧化钨薄膜的最佳工艺条件。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 weixin_48299 资源:432 粉丝:0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台,下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容!联系邮箱:server@dude6.com