取代基对卟啉三阶光学非线性及弛豫过程的影响

研究了取代基对卟啉三阶光学非线性和激发态弛豫过程的影响,发现在同一取代位置,推电子基团取代使得卟啉三阶光学非线性极化系数x(3)值相对增加,而吸电子基团取代使得卟啉x(3)值相对减少;对同一取代基在不同取代位置,发现推电子基团在邻位取代的x(3)值大于其在对位取代卟啉的x(3)值。而吸电子基团在邻位取代的x(3)值小于其在对位取代卟啉的x(3)值;另外,还发现推电子基团取代的卟啉弛豫过程比吸电子基团取代的卟啉弛豫过程快7倍。