高分辨率折射式投影光刻物镜的研究

投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节,ArF光刻投影曝光作为实现100~32 nm特征尺寸微细加工的首选技术,其中光刻物镜的光学性能是实现高分辨率的关键。介绍了利用光学设计软件Code V设计全折射干式投影光刻系统的过程、难点与创新。该系统应用28块球面镜,数值孔径达到0.75,在分辨率增强技术的辅助下可以实现90 nm分辨率光刻,成像面积为26 mm×10.5 mm,放大倍率-0.25,采用双远心结构以减少工作平台调平对焦不准所引入的误差。光学分析结果表明,系统在全视场范围内最大畸变为0.005 nm,最大波像差0.015λ(均方根值),该投影曝光光学系统基本满足现阶段光刻机的性能要求