1. 首页
  2. 数据库
  3. 其它
  4. 基态HF分子和介质消耗对重复频率脉冲HF激光输出的影响

基态HF分子和介质消耗对重复频率脉冲HF激光输出的影响

上传者: 2021-02-23 12:30:33上传 PDF文件 3.93MB 热度 17次
研究了氟化氢(HF)分子浓度以及工作介质消耗对激光脉冲能量的影响。受激光器内基态HF分子对激光的再吸收以及对激发态分子强弛豫的影响, 激光脉冲能量随着激光器内HF分子浓度的升高而明显下降, HF分子浓度每增加1×1015 cm-3, 激光脉冲能量约下降1.15%。1个激发态HF分子约产生0.8个光子, 放电区内SF6气体的分解率约为1%, 单次放电过程中激光器内所消耗的工作介质较少, 约为气体总量的1/(2×105)。实验结果表明:HF分子浓度对激光脉冲能量的影响较大, 介质消耗对激光脉冲能量影响较小; 通过在激光器内加入分子筛, 可以将HF浓度控制在1.8×1015 cm-3的水平。在两个因
下载地址
用户评论