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常压下高低温交变实验对激光薄膜元件的影响

上传者: 2021-02-22 01:50:44上传 PDF文件 1.89MB 热度 9次
在不同的实验环境条件下,对电子束蒸发制备的ZrO2/SiO2多层膜进行了高低温交变实验。扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)的测试结果显示高低温交变前后薄膜内部均无晶体形成,膜层结构也无变化。测试高低温交变前后样片的透射率光谱、面形、激光损伤阈值,并对其进行分析。结果表明,在经历高低温交变实验之后,薄膜元件中心波长处的透射率下降,损伤阈值降低,面形向凹陷方向发展。
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