中红外激光陶瓷的研究进展与展望

波段为2~5 μm的中红外激光在国防、医疗、通信等方面有着特殊的重要应用, 而直接产生中红外激光的增益介质主要包括气体激光介质、半导体、稀土离子或者过渡金属离子掺杂的化合物。本文首先介绍应用于中红外波段的发光离子(包括Tm3+, Ho3+, Er3+等稀土离子和Cr2+, Fe2+等过渡金属离子)光谱特性, 然后重点介绍氧化物(包括石榴石和倍半氧化物)和II-VI族化合物(主要是ZnS/ZnSe)两大类中红外激光陶瓷材料的制备与激光性能。最后, 对这两大类中红外激光陶瓷中存在的问题进行了分析, 并对其发展方向进行了展望。