从XeF激光混合气体中除去杂质F

用于电子束泵浦的XeF激光器混合气体的“净化”或提纯的新装置已由阿符科·埃佛雷特研究实验室的曼德耳(A. Mandll)等设计成功。在理想情况下,激光器的混合气体由NF3、Xe和缓冲气体,例如Ne组成。然而,在实际运转时,F2(也许其它氯的混合物)在混合气体中形成,而它的量随着温度接近准分子最佳运转温度(约450 °K)而增加。这些杂质在351毫微米的激光波长处有吸收,因而使性能劣化,于是在这样的温度下,必须幵环运转。这个小组设计了一种“净化”系统,它能有选择地从NF3、Xe和Ne混合气体中除去巧,使得即使在高温下也允许闭环运转。