Cu/Ti超晶格薄膜的强紫外反射性能研究

采用直流磁控溅射方法制备了一维二组元Cu/Ti周期超晶格金属薄膜,研究了基片温度、膜周期数、基片取向与紫外反射的关系。当基片加热温度为470°C时,在硅(100)晶面上生长的30层Cu/Ti膜,层间膜厚控制在1:3、膜总厚度控制为300nm时,所制备的超晶格薄膜在5°入射角下对200nm的紫外光,其反射率可高达90%。