采用相位掩模板法,实验研究了准分子激光器制作光纤布拉格光栅(FBG)过程中,紫外光热效应对光栅生长过程和光谱结构的影响。研究发现,相位掩模板法直接曝光法中,对同一段光敏光纤进行累加曝光,其反射率不会随着曝光量的增大而线性增长,而在多次曝光时会产生光栅反射率变小的“漂白”现象,并且多次曝光的时间间隔越短,“漂白”的过程也越长;相同的曝光量下,激光器重复频率越高,则曝光所用时间越短,所形成的光纤光栅的反射率越高;扫描曝光制作光纤光栅时,在相同的曝光参数下,扫描移动方向的不同会导致光栅旁瓣分布规律的不同,由此提出了光栅制作过程中存在“热致啁啾”现象。
