193 nm氟化物薄膜的激光诱导损伤

在ArF准分子激光系统的应用中,光学薄膜元件激光诱导损伤的因素很多,因此在特定模式下分析薄膜损伤机理具有重要意义。采用热蒸发方法分别制备了LaF3和MgF2单层薄膜,以及LaF3/MgF2的半反射薄膜和高反射薄膜,对沉积的薄膜进行了ArF准分子193 nm激光的损伤阈值测量,并采用Nomarski显微镜观察了薄膜的表面缺陷和损伤形貌。实验结果表明,在薄膜的制备过程中,单层LaF3薄膜沉积后表面比较光滑,而MgF2薄膜则有少量的缺陷产生,缺陷随着薄膜层数的增加而逐渐增多。从薄膜的显微观测推断,在此工艺条件下制备的高反射薄膜损伤主要是由于大量缺陷引起。