第四届国际激光光谱学会议报导

从1979年6月11日到15日在西德罗塔赫·伊格恩召开的第四届国际激光光谱学会议来看,激光光谱界的增长与此领域内研究的进展同样显著。有600名科学家申请参加会议,据慕尼黑技术大学和马克斯普朗克学会的H·沃耳特说,这大大超过了预计的人数。会议的参加者共320人,使该市的食宿设施顿趋紧张。这次会议出席者大大超过了前两次会议,一次是1975年在法国麦热夫召开的,出席人数220人,另一次是1977年在美国怀俄明的杰克逊召开的,当时有180人出席。