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干法腐蚀在硅微波功率晶体管研制中的应用

上传者: 2021-02-07 00:45:01上传 PDF文件 84.68KB 热度 11次
摘要:干法腐蚀与传统的湿法腐蚀相比,具有明显的各向异性,并且具有较好的可重复性、可控性及在硅片加工中易实现连续生产等优点,已成为目前硅微波功率晶体管研制和生产的关键技术。本文对目前干法腐蚀在硅微波大功率晶体管中的应用进行了分析,指出随着硅微波功率晶体管工作频率的不断提高,对高性能各向异性的干法腐蚀技术要求也更加迫切。1引言干法腐蚀已广泛应用于半导体工艺和其他腐蚀环境中,腐蚀工艺是硅微波功率晶体管研制、生产的关键工艺。随着器件特征尺寸的不断缩小,干法腐蚀技术的独到优点就越发明显,首先其具有较好的各向异性,可以得到垂直的图形侧壁,利于细线条的加工;其次具有较好的工艺重复性和可控性,在一定程度上可降
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