荧光成像技术探测熔石英元件亚表面缺陷

提出荧光成像技术用于无损探测熔石英光学元件亚表面缺陷, 利用该方法获得不同加工工艺下熔石英光学元件的亚表面缺陷。结合熔石英光学元件损伤性能研究, 分析了熔石英光学元件亚表面缺陷与其损伤性能的关联关系。结果表明, 熔石英光学元件损伤阈值与荧光缺陷密度呈反比关系, 即亚表面荧光缺陷较少的样品损伤性能较好。这说明利用该技术方法可以有效评价熔石英光学元件的损伤性能。该研究结果对光学元件加工技术具有指导意义。