晶片有机残余物 上传者：cs69465pc 2020-12-13 16:17:37上传 PDF文件 21.02KB 热度 8次 有机残余物是含碳的化合物,例如指纹中的油分。这些残余物可以在溶剂浸泡池中被去除,例如丙酮,乙醇或TCE。一般说来,要想将晶片表面的溶剂完全烘干非常困难,所以如果可能,会尽量避免用溶剂清洗晶片。另外,溶剂经常会有杂质,从而使其本身成为了污染源。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 cs69465pc 资源：434 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
