污染颗粒怎样去除

晶片表面的颗粒大小可由从非常大的(50微米)变化到小于一微米。大的颗粒可用传统的化学浸泡池和相应的清水冲洗除去。较小的颗粒被几种很强的力量吸附在表面所以很难除去。一种是范德华吸引力,这是一种在一个原子的电子和另一个原子的核之间形成的很强的原子间吸引力。尽量减小这种静电引力的技术是控制一种叫做z-电势的变量。z-电势是在颗粒周围的带电区与清洁液中带相反电荷的带电区域形成平衡的平衡电势。这个电势随着速度(当晶片在清洗池中移动时清洗液的相对移动速度),溶液的pH值和溶液中的电解质的浓度变化而变化的。同时,它还将受到清洗液中的添加剂,如表面活性剂的影响。我们可以通过设定这些条件来得到一个与晶片表面相同