限散射角电子束光刻技术及其应用前景

(江苏大学电气信息工程学院,江苏 镇江 212013)摘 要:在下一代光刻(NGL)技术中,限散射角电子束光刻(SCALPEL)技术工艺简单、成本较低,因此是集成电路生产厂家首选的光刻方案之一。本文论述了SCALPEL的工作原理、加工工艺和方法、SCALPEL系统等,并对比分析了SCALPEL在NGL研发中的技术优势及其应用要点。 关键词:超大规模集成电路,纳米CMOS器件,电子束光刻,散射,技术优势,应用前景 中图分类号:TN305.7;TN47 文献标识码:A 文章编号:1003-353X(2005)06-0018-051 引言 集成电路(IC)制造中的一个重要步骤是应用光刻技术确定一个个